【武汉纯水设备】集成电路生产用超纯水

在集成电路生产中，超纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。

集成电路生产过程中大量工序需要使用超纯水，其水质与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。

水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属 （Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

超纯水中的各种离子化合物已去除至极低，电阻率最大能达到18.25MΩ.cm，满足集成电路生产工艺要求。武汉反渗透纯水设备 武汉EDI超纯水处理设备 武汉工业纯水设备 武汉实验室超纯水设备 武汉纯化水设备