【武汉纯水设备】核子级抛光混床超纯水系统工艺流程
超纯水广泛应用于电子芯片、医药生物、精细化工等其他行业,理论电阻率最高为18.25 MΩ·cm。 在EDI装置后,通常配备抛光混床作为最终的精处理装置,设计流速一般为40-60m/h。
这种抛光混床树脂采用相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱再生。
反渗透+EDI +抛光混床的超纯水系统工艺流程:
原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性碳过滤器→软化器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透→中间水箱→二级高压泵→二级反渗透系→纯水箱→纯水泵→TOC分解器→精密过滤器→EDI装置→纯水箱→纯水泵→抛光混床→精密过滤器→用水点武汉反渗透纯水设备武汉EDI超纯水处理设备 武汉工业纯水设备 武汉实验室超纯水设备 武汉纯化水设备