目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm。

预处理必须能够去除原水中的绝大多数杂质以满足反渗透进水要求，确保产水水质达标、产水量稳定、系统回收率长期维持不变、延长反渗透膜使用寿命等。

压力表：主要设在泵前、泵后、浓水、产水侧，显示反渗透装置的运行压力，根据压力数值判断膜及滤芯是否堵塞。

水在加热过程中，由于蒸发浓缩，水中的金属阳离子同阴离子结合在一起，形成水垢附着在受热面上，水中这些金属离子的总浓度称为水的硬度。

超纯水广泛应用于电子芯片、医药生物、精细化工等其他行业，理论电阻率最高为18.25 MΩ·cm。 在EDI装置后，通常配备抛光混床作为最终的精处理装置，设计流速一般为40-60m/h。

在集成电路生产中，超纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。

化工行业中的纯水主要应用于电池溶剂用水、化学分析、化工材料、产品清洗、物质的分离、浓缩、提纯等产线，纯水电导率0.1uS/cm-15uS/cm即可满足要求。

在纯水设备中通过前置预处理装置，对原水进行初步的过滤，达到反渗透主机的进水要求。

超纯水设备采用高精密器件，无易损件，只需按时对设备进行维护保养，就可以增加设备使用时间。