在集成电路生产中，超纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。

超滤是一种加压膜分离技术，当被处理的水借助于外界压力的作用，以一定的流速通过膜表面时，水分子和分子量小于300—500的溶质透过膜，而大于膜孔的微粒、大分子等由于筛分作用被截留，从而使水得到纯化。

汽车工厂金属制品的生产过程中，用电泳法将涂料沉积到金属表面上后，必需用清水将产品上吸着的电镀液洗掉。洗涤得到含涂料1～2％的淋洗废水，用超滤装置分离出清水，涂料得到浓缩后可以重新用于电涂，清水可直接用于清洗，可实现水的循环使用。

在超大规模集成电路的超纯水系统中，水质的主要指标为：电阻率、微粒、TOC(总有机硅)、碱土金属、重金属、溶解氧等。在制造过程中，与硅片接触的水所含离子越多，对产品良品率影响就越大。

化工行业中的纯水主要应用于电池溶剂用水、化学分析、化工材料、产品清洗、物质的分离、浓缩、提纯等产线，纯水电导率0.1uS/cm-15uS/cm即可满足要求。

pH值对脱盐率的影响：当PH值小于8时，水中的C032-和HCO3-开始部分转化为CO2，当PH值小于4时，水中的C032-和HCO3-全部转化为CO2。

大型反渗透设备中加药装置对反渗透膜的运转十分重要，加药系统要设计合理，运行过程中要做好检修工作。

在纯水设备中通过前置预处理装置，对原水进行初步的过滤，达到反渗透主机的进水要求。

超纯水设备采用高精密器件，无易损件，只需按时对设备进行维护保养，就可以增加设备使用时间。